液相法長(zhǎng)晶爐

所屬分類(lèi)：

SiC單晶生長(zhǎng)設(shè)備

液相法長(zhǎng)晶爐

概要：

液相法可以在更低的溫度（＜2000℃）以下實(shí)現(xiàn)SiC單晶的生長(zhǎng)，理論上更容易獲得高質(zhì)量的單晶。利用溫度梯度作為生長(zhǎng)驅(qū)動(dòng)力來(lái)實(shí)現(xiàn)晶體的生長(zhǎng)。

關(guān)鍵詞：

液相法長(zhǎng)晶爐

液相法長(zhǎng)晶爐

產(chǎn)品概述/Product Introduction：

本設(shè)備主要用于碳化硅（SiC）單晶生長(zhǎng)。液相法可以在更低的溫度（＜2000℃）以下實(shí)現(xiàn)SiC單晶的生長(zhǎng)，理論上更容易獲得高質(zhì)量的單晶。利用溫度梯度作為生長(zhǎng)驅(qū)動(dòng)力來(lái)實(shí)現(xiàn)晶體的生長(zhǎng)。

This equipment is mainly used for the single crystal growth of siliconcarbide(SiC) .LPE method enables the growth of SiC single crystals below much lower temperatures (<2000°C), which theoretically makes it easier to obtain high-quality single crystals. The temperature gradient is utilized as a growth driver to achieve crystal growth.

產(chǎn)品特點(diǎn)/Product Characteristics：

提供2英寸驗(yàn)證工藝

Provide2 inches validation process

♦ 晶體尺寸:6/8英寸

Crystal size: 6/8 inches

♦ 溫度范圍：溫度1500-2100℃

Temperature range: 1500-2100 ℃

♦ 真空度:1*10-3pa

Vacuum Pressure: 1 * 10-3pa

♦ 提拉/坩堝桿：升降0.2-400mm/h，旋轉(zhuǎn)0.5-50rpm

Lift/crucible lever: lift rate 0.2-400mm/h, rotation rate 0.5-50rpm

♦ 稱(chēng)重：6kg 精度：0.01g