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本設備主要用于氮化鎵(GaN)單晶生長;

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本設備是將SiC籽晶通過有機膠粘接在石墨上。提高籽晶粘接質量是保證高 品質SiC晶體生長的首要前提。

本設備主要用于碳化硅(SiC)、氮化鋁(AIN)單晶生長。

本設備主要用于碳化硅(SiC)、氮化鋁(AIN)單晶生長。

液相法可以在更低的溫度(<2000℃)以下實現(xiàn)SiC單晶的生長,理論上更容易獲得高質量的單晶。利用溫度梯度作為生長驅動力來實現(xiàn)晶體的生長。

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